利用兆聲波技術(shù)的清洗、拋光、顯影、刻蝕等半導(dǎo)體濕法處理

超聲波清洗技術(shù)是最為常用的工業(yè)清洗技術(shù)之一，傳統(tǒng)的超聲波清洗技術(shù)是通過(guò)20kHz-100kHz的超聲波在液體中產(chǎn)生的空化作用，對(duì)物體表面的污漬進(jìn)行去除而達(dá)到清洗的目的。但超聲波空化作用過(guò)強(qiáng)會(huì)對(duì)物體表面造成一定損傷，如在半導(dǎo)體器件、光學(xué)精密件等精密元器件的清洗中，由于器件表面有微結(jié)構(gòu)，傳統(tǒng)高頻超聲波清洗會(huì)對(duì)其表面造成損壞。另外，超聲頻率越高，清洗的雜質(zhì)顆粒粒徑越小，最高頻率100kHz的傳統(tǒng)超聲波清洗很難清洗1微米以下的雜質(zhì)顆粒。

圖1：噴淋式兆聲清洗示意圖

頻率高于400kHz的超聲波在液體中傳播時(shí)，能使被清洗件表面附近形成速度梯度很大且極薄的聲學(xué)邊界層，其雜質(zhì)粒子受到液體兆赫頻的震蕩作用從器件表面脫落，能夠清洗掉元器件表面微米、亞微米級(jí)的雜質(zhì)顆粒，實(shí)現(xiàn)超精密清洗過(guò)程。此外，高頻超聲波清洗過(guò)程由于極低的空化效應(yīng)，對(duì)被清洗件表面不會(huì)產(chǎn)生損傷，能夠有效解決精密元器件清洗后造成的腐蝕或損傷破壞等現(xiàn)象。所以能發(fā)射兆赫茲級(jí)別的兆聲裝置被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域，并且除了有清洗作用外，還可以在CMP化學(xué)機(jī)械拋光、顯影、除膠、金屬剝離、刻蝕等關(guān)鍵工藝中起到重要作用。

Siansonic（東方金榮）兆聲清洗技術(shù)典型應(yīng)用領(lǐng)域

• 晶圓清洗

• CMP化學(xué)機(jī)械拋光

• 顯影

• 刻蝕輔助

• 除膠

• 金屬剝離

Siansonic（東方金榮）自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的兆聲清洗機(jī)術(shù)突破了多年以來(lái)美國(guó)和日本在此行業(yè)的壟斷，已推出了400kHz到3000kHz（3MHz），包括槽式兆聲清洗、噴淋式兆聲清洗和貼合式兆聲清洗等的各種兆聲清洗裝置產(chǎn)品，可應(yīng)對(duì)各種尺寸晶圓、MEMS等產(chǎn)品的濕法處理需求。

Siansonic（東方金榮）兆聲清洗裝置的優(yōu)勢(shì)

• 極低的空化效應(yīng)不會(huì)對(duì)器件表面造成損傷

• 超高清洗精度，可去除0.2微米顆粒

• 全面非金屬高防腐材質(zhì)，適應(yīng)各種酸堿及有機(jī)溶劑

• 石英或藍(lán)寶石清洗面，無(wú)雜質(zhì)脫落到器件上的風(fēng)險(xiǎn)

• 第三代半導(dǎo)體技術(shù)的兆聲發(fā)生器，全面實(shí)現(xiàn)數(shù)字化高頻大功率驅(qū)動(dòng)